X熒光光譜儀產(chǎn)品及廠家
txrf(全反射x熒光)分析原理是基于x熒光能譜法，但與x射線能譜形成對(duì)比的是，傳統(tǒng)能譜采用原級(jí)x光束以45°角轟擊樣品，而txrf采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級(jí)x光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生，同時(shí)減小了載體的背景和噪聲，亦可減少樣品使用量。
更新時(shí)間:2025-09-16
xrf(全反射x熒光)分析原理是基于x熒光能譜法，但與x射線能譜形成對(duì)比的是，傳統(tǒng)能譜采用原級(jí)x光束以45°角轟擊樣品，而txrf采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級(jí)x光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生，同時(shí)減小了載體的背景和噪聲，亦可減少樣品使用量。tx2000 將全反射和傳統(tǒng)的能量色散集成在同一臺(tái)儀器上，創(chuàng)新光學(xué)編碼器的步進(jìn)電機(jī)，保證精確角度測(cè)量，軟件控制mo/w靶可自由切換，采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測(cè)器。
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xrf(全反射x熒光)分析原理是基于x熒光能譜法，但與x射線能譜形成對(duì)比的是，傳統(tǒng)能譜采用原級(jí)x光束以45°角轟擊樣品，而txrf采用毫弧度的臨界角(接近于零度角)入射。由于采用此種近于切線方向的入射角，原級(jí)x光束幾乎可以全部被反射，照射在樣品表面后，可以很大程度上避免樣品載體吸收光束和減小散射的發(fā)生，同時(shí)減小了載體的背景和噪聲，亦可減少樣品使用量。tx2000 將全反射和傳統(tǒng)的能量色散集成在同一臺(tái)儀器上，創(chuàng)新光學(xué)編碼器的步進(jìn)電機(jī)，保證精確角度測(cè)量，軟件控制mo/w靶可自由切換，采用高分辨、低背景的帕爾貼控溫硅漂移檢測(cè)器。
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